大基金二期战略入股光刻胶公司 半导体设备材料成长价值凸显

    南大光电7月27日晚间公告，为抓住机遇，加快光刻胶事业发展，公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司（下称“宁波南大光电”）拟通过增资扩股方式，引入战略投资者国家集成电路产业投资基金二期股份有限公司（下称“大基金二期”）。

    在业内人士看来，大基金此番投资光刻胶领域公司是进一步补齐半导体产业链短板的举动；后续，大基金或将围绕先进集成电路产业链，在半导体更上游的材料、设备领域继续加大投资。随着半导体设备、材料“补链”发展，中国半导体产业将真正构建起竞争力。

    缘何“落子”光刻胶

    据公告，大基金二期拟以1.833亿元认购宁波南大光电的新增注册资本6733.19万元，其中，6733.19万元计入新增注册资本，其余11596.81万元计入资本公积。本次增资后，宁波南大光电的注册资本由3亿元增至3.6733亿元，南大光电对其持股比例由71.67%降至58.53%，大基金二期将持股18.33%。

    本次宁波南大光电投前估值8.167亿元，投后估值10亿元。宁波南大光电为什么这么值钱？或者说，大基金二期为什么看上了它？

    南大光电披露，宁波南大光电是国家科技重大专项（02专项）之“ArF光刻胶产品开发与产业化”项目的实施主体单位。目前，宁波南大光电已组建了一支具有国际水平的先进光刻胶产品开发和产业化队伍；建成年产25吨的ArF（干式和浸没式）光刻胶产品生产线；研发的ArF光刻胶产品分别通过一家存储芯片制造企业和一家逻辑芯片制造企业的客户认证，相关主要芯片制造企业的认证工作正在顺利推进。

    记者了解到，光刻胶是半导体制造的重要关键材料，ArF（193nm）光刻胶更是这个领域的先进材料之一，可以用于90nm-14nm甚至7nm技术节点的集成电路制造工艺，广泛应用于高端芯片制造。尤其是，随着先进制程的发展，ArF光刻胶已成为先进晶圆厂用量最大的光刻胶之一。

    但当前，不管是KrF（248nm）光刻胶还是ArF光刻胶，全球市场基本上被日本信越化学、JSR（日本合成橡胶公司）、住友化学、东京应化、杜邦等厂商垄断。国内厂商技术相对薄弱，产品品类也相对较少，竞争力相对不足。

    公开资料显示，在先进光刻胶领域，除了南大光电，彤程新材旗下北京科华能提供14nm以上制程所需要的大部分KrF光刻胶；晶瑞股份的KrF光刻胶完成中试，产品分辨率达到0.25μm-0.13μm的技术要求。

    设备材料是成长价值赛道

    对于大基金二期投资南大光电，有业内人士认为，大基金二期此举是进一步补齐集成电路产业链短板，尤其是先进集成电路产业链短板的举动。

    作为专门扶持半导体产业的基金，大基金一期1387亿元已基本投资完毕，二期基金规模2000亿元已经投资了多个项目。

    据上海证券报记者不完全统计，大基金一期投资的上市公司（包括上市公司子公司）有三安光电、北斗星通、纳思达等几十家。大基金二期投资的项目包括紫光展锐、深科技、思特威等公司或项目。目前，大基金二期合计已投资额超过365亿元。

    简单分析不难发现，大基金一期、二期鼎力支持了半导体设计、封装、制造（包括IDM公司、存储公司）等环节的龙头公司，并投资了部分半导体设备、材料类项目，初步扶持起一个较为完整的半导体产业链。

    但上述业内人士强调，在信息化、智能化快速发展的需求下，我国对28nm及以下制程的先进集成电路需求正在日益增长。在中芯国际等公司具备了28nm、14nm等较先进制程制造能力后，市场迫切需要产业链配套的先进半导体材料、设备，这也是下一步“补链”的重点，部分公司已经在这些赛道提前布局。

    记者注意到，除了光刻胶领域，在半导体设备领域，部分公司近期也披露了一些进展。比如，在刻蚀领域，中微公司的刻蚀设备再度获得突破，ICP（电感）刻蚀设备今年上半年交付数量接近既往总和，具有更大市场规模的CCP（电容）刻蚀设备也在6月份完成首台8英寸设备交付。离子注入机方面，万业企业的产品覆盖低能大束流、高能离子注入机领域，订单数量超预期。

    在某资深半导体投资人士看来，中国半导体产业在制造、封装、设计等环节已经具备了一定的竞争力，随着半导体设备、材料的“补链”发展，中国半导体产业将真正构建起一定的竞争力。由此，当前抢占了赛道、具有相对成熟产品的头部公司将进入加速度发展期，也具有更长期的成长价值。