光刻机国产化持续突破 多家公司股票竞相涨停

    本报记者 陈红

    9月18日，光刻机概念股爆发。同飞股份、波长光电均迎来20cm涨停；海立股份、张江高科、京华激光、凯美特气、奥普光电等均涨停；新莱应材、蓝英装备等涨幅超10%。

    光刻机为何持续火热？“光刻机之所以成为市场关注的焦点，主要由于其在半导体产业链中的核心地位以及技术门槛的高度。随着科技的不断进步，半导体行业对高精度、高效率的光刻机需求日益增加，使得光刻机成为衡量一个国家科技实力的重要标志。”福建华策品牌定位咨询创始人詹军豪对《证券日报》记者表示，随着近日国家指导目录将光刻机纳入重点发展对象，这一政策信号极大地提振了市场信心。

    光刻机国产化持续突破

    消息面上，为促进首台（套）重大技术装备创新发展和推广应用，加强产业、财政、金融、科技等国家支持政策的协同，工信部近日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》。

    目录显示，中国已经成功研发了氟化氪光刻机、氟化氩光刻机等。其中，氟化氩光刻机光源波长193纳米，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm的核心指标引发业内关注。

    上述指标对行业发展有何意义？中国电子商务专家服务中心副主任、资深人工智能专家郭涛对《证券日报》记者表示：“目前，氟化氩光刻机已具备65纳米以下的分辨率和8纳米以下的套刻精度，该光刻机大概可以量产28纳米工艺的芯片。这标志着中国在半导体设备领域实现了重要突破，未来有望达到国际先进水平。”

    与此同时，上海微电子近日也更新了一则动态，其公开了名为“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，内容涉及极紫外辐射（EUV）发生装置及光刻设备。

    据悉，EUV是一种使用波长为13.5纳米的极紫外光作为光源的下一代光刻技术，技术难点在于光学系统、光源等关键子系统，其广泛应用于半导体制造中。

    记者了解到，光刻机技术的持续突破，对半导体行业产生了积极的推动作用。中国企业资本联盟中国区首席经济学家柏文喜对《证券日报》记者表示：“光刻机技术的突破，不仅表明了国家对半导体设备自主可控的重视，也为国内半导体设备制造商提供了市场机遇。通过政策的支持和市场的拉动，可促进国产光刻机技术的进一步发展和应用，减少对外部技术的依赖，增强国内半导体产业的整体竞争力。”

    民生证券在研报中亦认为，国产光刻机技术亦在持续突破，利好半导体设备自主可控的长期发展，继续看好国内晶圆厂的投资增长和国产半导体设备的国产化机遇。

    多家公司研发成果显著

    据了解，光刻机是生产芯片的核心装备。光刻机技术极为复杂，在所有半导体制造设备中技术含量最高，主要涉及系统集成、精密光学、精密运动、精密物料传输、高精度微环境控制等多项先进技术。

    近年来，波长光电、腾景科技、凯美特气、茂莱光学、炬光科技及京华激光等相关公司均在光刻机领域持续加大研发投入，并取得显著成果。

    例如，波长光电表示，今年上半年，公司光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统。

    腾景科技称，公司在研“合分束器”项目，主要应用于光刻机光学系统。该项目属于定制化产品开发项目，相关产品正在验证中。

    炬光科技会根据客户的不同型号需求，匹配不同波长的光场匀化器。目前，公司相关产品已经用于KrF、ArF、ArF浸没式等DUV光刻机。

    作为光刻机的血液，凯美特气生产芯片所需的超高纯气体和光刻气产品已通过多个国际头部企业的相关认证或审核，并建立合作。

    柏文喜认为：“目前，中国光刻机已取得了一定的进展，但与国际先进水平相比，仍有提升空间。国内企业需要在光源技术、光学镜头、双工作台系统等关键技术上持续投入和研发，以提高国产光刻机的技术水平和市场竞争力。”

    面对光刻机概念的暴涨，郭涛认为：“投资者应深入了解公司的技术研发实力、市场表现和财务状况等因素，避免盲目跟风投资而遭受损失。同时，要警惕市场过度炒作，理性看待光刻机概念的投资价值。”

（编辑 闫立良）